সিলিকন কার্বাইড ফ্ল্যাট শীট মেমব্রেন প্রযুক্তি নিমজ্জিত আল্ট্রাফিল্ট্রেশন বিভাগের অন্তর্গত। এর মূল প্রয়োগে সরাসরি সিলিকন কার্বাইড ফ্ল্যাট শীট মেমব্রেন মডিউলকে কাঁচা জল বা বর্জ্য জলের ট্যাঙ্কে নিমজ্জিত করা জড়িত। বাহ্যিক শক্তি দ্বারা চালিত (সাধারণত একটি পারমিট পাম্প বা সাইফন দ্বারা প্রদত্ত নেতিবাচক চাপ), ঝিল্লির ছিদ্রের চেয়ে ছোট জল এবং কণা ঝিল্লি স্তরের মধ্যে দিয়ে প্রবেশ করে, যখন ছিদ্রের চেয়ে বড় কণাগুলি ধরে রাখা হয়, এইভাবে কঠিন-তরল বিচ্ছেদ অর্জন করে।
আল্ট্রাফিল্ট্রেশন ক্লিনিং প্রক্রিয়াগুলিকে শারীরিক পরিচ্ছন্নতা এবং রাসায়নিক পরিষ্কারের মধ্যে ভাগ করা হয়। শারীরিক পরিচ্ছন্নতার মধ্যে রয়েছে ব্যাকওয়াশিং, স্প্রে করা এবং বায়ুচলাচল প্রক্রিয়া। ব্যাকওয়াশিং ঝিল্লির ছিদ্রগুলি থেকে গভীর-বসা এবং পৃষ্ঠের দূষিত পদার্থগুলিকে অপসারণ করতে বিপরীত জলের প্রবাহ (ঝিল্লি মডিউলের প্রান্ত থেকে প্রবেশ করে এবং ঝিল্লির ছিদ্রের মধ্য দিয়ে প্রবেশ করে) ব্যবহার করে। স্প্রে করা এবং বায়ুচলাচল প্রক্রিয়াগুলি ঝিল্লি পৃষ্ঠের সাথে লেগে থাকা অমেধ্য অপসারণে সহায়তা করার জন্য হাইড্রোলিক প্রভাব বা গ্যাসের ব্যাঘাত ব্যবহার করে। রাসায়নিক পরিচ্ছন্নতা রাসায়নিক রক্ষণাবেক্ষণ পরিষ্কার (CEB) এবং রাসায়নিক পুনরুদ্ধারকারী পরিষ্কার (CIP) সহ আল্ট্রাফিল্ট্রেশন মেমব্রেনের উপর এবং ভিতরে গঠিত কলয়েড, জৈব পদার্থ, অজৈব লবণ এবং অন্যান্য দূষক অপসারণ করতে রাসায়নিক এজেন্ট ব্যবহার করে।
01 সিলিকন কার্বাইড সিরামিক ফ্ল্যাট শীট মেমব্রেন সিস্টেম অপারেশন মোড
সিলিকন কার্বাইড ফ্ল্যাট শীট মেমব্রেন আল্ট্রাফিল্ট্রেশন সিস্টেমের অপারেশন মোডগুলি নিম্নরূপ:

ঝিল্লি পরিস্রাবণ প্রক্রিয়া নিম্নলিখিত পদক্ষেপগুলি অন্তর্ভুক্ত করে:
প্রোডাক্ট ওয়াটার: প্রোডাক্ট ওয়াটার স্টেপ মেটাল অক্সাইড, সাসপেন্ডেড সলিডস এবং ব্যাকটেরিয়া জাতীয় দূষিত পদার্থগুলিকে সরিয়ে দেয়;
ব্যাকওয়াশিং: ঝিল্লি পৃষ্ঠ থেকে ফিল্টার কেক স্তর অপসারণের জন্য পর্যায়ক্রমিক ব্যাকওয়াশিং প্রয়োজন;
স্প্রে করা: জল সরাসরি ফিল্টার টাওয়ারের শীর্ষে স্প্রে করা হয়, ব্যাক ওয়াশিং এবং পরিষ্কারের দক্ষতা উন্নত করে;
বায়ুচলাচল: বায়ু ফিল্টার টাওয়ারের নিচ থেকে আসে, ব্যাকওয়াশিং এবং পরিষ্কারের প্রক্রিয়া উন্নত করে;
রাসায়নিক সঞ্চালন: ঝিল্লির শীটের ভিতর থেকে ফাউলিং বা স্কেলিং অপসারণ করে;
রাসায়নিক পরিষ্কার: ঝিল্লির বাইরে থেকে ফাউলিং বা স্কেলিং অপসারণ করে।
02 সিলিকন কার্বাইড সিরামিক ফ্ল্যাট শীট মেমব্রেন সিস্টেম অপারেশন প্রক্রিয়া
1. ওয়াটার ইনজেকশন এবং এয়ার ভেন্টিং
সিস্টেম থেকে বাতাস বের করে মেমব্রেন ট্যাঙ্কে কাঁচা জল প্রবেশ করাতে উপরের এয়ার ভেন্ট ভালভ এবং ইনলেট ভালভটি খুলুন।
স্টার্টআপ টাইমিং: সিস্টেমটি প্রথমে চালানো হয় বা সিলিকন কার্বাইড সিরামিক ফ্ল্যাট শীট মেমব্রেন সিস্টেমটি তরল খালি করার পরে।

2. পরিস্রাবণ
পরিস্রাবণ ঝিল্লির ভিতরে নেতিবাচক চাপ (শূন্যতা) তৈরি করতে একটি পাম্প ব্যবহার করে। এই চাপের পার্থক্য ঝিল্লির মধ্য দিয়ে জলের অণুগুলিকে চালিত করে, যা বিশুদ্ধ জলকে পারমিট পাশ থেকে প্রবাহিত হতে দেয়, যখন দূষকগুলি ধরে রাখা হয়।

3. শারীরিক পরিচ্ছন্নতা
শারীরিক পরিচ্ছন্নতার দুটি ধাপ রয়েছে। মেমব্রেন সিস্টেমের কর্মক্ষমতার উপর ফিল্টার কেক স্তরের প্রভাবকে মোকাবেলা করার জন্য প্রথম পর্যায়ে ব্যাকওয়াশিং এবং বায়ুচলাচলের জন্য ব্যাকওয়াশ পাম্প এবং বায়ুচলাচল ডিভাইস ব্যবহার করা হয়। দ্বিতীয় পর্যায়ে, রাসায়নিক পরিষ্কারের আগে সম্পাদিত, ঝিল্লির ট্যাঙ্ক খালি করা এবং ঝিল্লি উপাদানগুলিকে পুঙ্খানুপুঙ্খভাবে শারীরিকভাবে পরিষ্কার করার জন্য ব্যাকওয়াশিং এবং বায়ুচলাচলের সাথে মিলিত একটি স্প্রে পরিষ্কার প্রক্রিয়া ব্যবহার করে, রাসায়নিক পরিষ্কারের জন্য অনুকূল পরিস্থিতি তৈরি করে।
① ব্যাকওয়াশ এবং বায়ুচলাচল

② ঝিল্লি ট্যাঙ্ক খালি করা এবং বায়ুচলাচল

③ স্প্রে করা এবং ব্যাকওয়াশিং এবং বায়ুচলাচল এবং খালি করা

4. রাসায়নিক পরিষ্কার
রাসায়নিক পরিচ্ছন্নতা কেমিক্যাল মেইনটেন্যান্স ক্লিনিং (সিইবি) এবং কেমিক্যাল ইন-প্লেস ক্লিনিং (সিআইপি) এ বিভক্ত করা হয়েছে।
① রাসায়নিক রক্ষণাবেক্ষণ পরিষ্কার (CEB)
রাসায়নিক রক্ষণাবেক্ষণ ক্লিনিং (CEB) পরিষ্কারের প্রভাবকে উন্নত করতে ব্যাকওয়াশ জলে রাসায়নিক যুক্ত করে।

② রাসায়নিক ইন-স্থান পরিষ্কার করা (সিআইপি)
যখন উপরের পরিষ্কারের পদ্ধতিগুলি ফ্লাক্স পুনরুদ্ধার করতে ব্যর্থ হয় বা পারমিট চাপ CIP ক্লিনিং মান (-40 kPa) এ পৌঁছায়, তখন রাসায়নিক ইন-প্লেস ক্লিনিং (সিআইপি) শুরু করতে হবে। এই প্রক্রিয়ার মধ্যে সিলিকন কার্বাইড ফ্ল্যাট শীট মেমব্রেন মডিউলকে একটি রাসায়নিক পরিচ্ছন্নতা এজেন্টে নিমজ্জিত করা জড়িত যাতে ঝিল্লির পৃষ্ঠ এবং ছিদ্রগুলি থেকে একগুঁয়ে দূষককে সম্পূর্ণরূপে দ্রবীভূত করা এবং অপসারণ করা হয়, যার ফলে ঝিল্লির কার্যক্ষমতা পুনরুদ্ধার করা হয়।

03 সাধারণত ব্যবহৃত ক্লিনিং এজেন্ট এবং সিলিকন কার্বাইড সিরামিক ফ্ল্যাট শীট ঝিল্লির জন্য জলের গুণমানের প্রয়োজনীয়তা
①সাধারণত ব্যবহৃত ক্লিনিং এজেন্ট
নিম্নলিখিত সারণীতে সাধারণত ব্যবহৃত রাসায়নিক পরিচ্ছন্নতা এজেন্টের তালিকা রয়েছে:
|
এজেন্ট প্রকার |
সাধারণত ব্যবহৃত এজেন্ট |
|
অক্সিডাইজিং এজেন্ট |
সোডিয়াম হাইপোক্লোরাইট (NaOCl) |
|
ক্ষারীয় এজেন্ট |
সোডিয়াম হাইড্রক্সাইড (NaOH) |
|
অ্যাসিডিক এজেন্ট |
হাইড্রোক্লোরিক অ্যাসিড (HCl)/সাইট্রেট |
দ্রষ্টব্য: নির্দিষ্ট এজেন্ট ডোজ প্রকৃত সাইটের অবস্থা অনুযায়ী সামঞ্জস্য করা যেতে পারে।
② পরিষ্কার জলের গুণমানের প্রয়োজনীয়তা
পরিষ্কারের রাসায়নিকগুলি দ্রবীভূত করার জন্য ব্যবহৃত পরিষ্কারের জল UF পারমিট, বিশুদ্ধ জল বা অন্যান্য তুলনামূলকভাবে পরিষ্কার জলের উত্স হতে পারে। নিম্নলিখিত শর্ত পূরণ করা আবশ্যক:
|
আইটেম |
প্যারামিটার |
|
মোট কঠোরতা |
<80ppm (carbonate content) |
|
স্টেনিং ইনডেক্স (SDI) |
<3 |
|
মোট জৈব পদার্থ |
<8ppm |
|
আয়রন আয়ন |
<0.5ppm |
|
সিলিকন আয়ন |
<5ppm |
দ্রষ্টব্য: নির্দিষ্ট অপারেশন এবং পরিষ্কার জলের গুণমান প্রকৃত সাইটের অবস্থা অনুযায়ী সামঞ্জস্য করা যেতে পারে।
